晶盛机电申请抛光机及抛光状态监测方法专利,可延长抛光机的使用寿命,减少停机次数
发表时间:2024-07-14
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2024 年 7 月 9 日消息,天眼查知识产权信息显示,浙江晶盛机电股份有限公司申请一项名为“抛光机及抛光状态监测方法“专利,公开号 CN202410727790.7,申请日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显示,本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法,属于晶片抛光技术领域,解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘,抛光盘上设有抛光垫,用于抛光晶片;抛光头,抛光头设置于抛光盘上方,抛光头包括:软基垫和本体,软基垫设置于抛光头底部,软基垫用于吸附晶片,本体设置于软基垫上方远离抛光垫的一侧,本体与软基垫之间形成一空腔;以及检测组件,包括磁场发生器和磁场检测器。本申请通过在抛光盘上设置磁场发生器以形成磁场,并利用磁场的磁吸力与抛光头内的磁场检测器相配合,从而快速检测晶片状态为正常运行或飞片,便于及时执行相应的抛光控制策略,可延长抛光机的使用寿命,减少停机次数。
专利摘要显示,本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法,属于晶片抛光技术领域,解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘,抛光盘上设有抛光垫,用于抛光晶片;抛光头,抛光头设置于抛光盘上方,抛光头包括:软基垫和本体,软基垫设置于抛光头底部,软基垫用于吸附晶片,本体设置于软基垫上方远离抛光垫的一侧,本体与软基垫之间形成一空腔;以及检测组件,包括磁场发生器和磁场检测器。本申请通过在抛光盘上设置磁场发生器以形成磁场,并利用磁场的磁吸力与抛光头内的磁场检测器相配合,从而快速检测晶片状态为正常运行或飞片,便于及时执行相应的抛光控制策略,可延长抛光机的使用寿命,减少停机次数。