晶盛机电申请抛光机及抛光状态监测方法专利，可延长抛光机的使用寿命，减少停机次数

 2024 年 7 月 9 日消息，天眼查知识产权信息显示，浙江晶盛机电股份有限公司申请一项名为“抛光机及抛光状态监测方法“专利，公开号 CN202410727790.7，申请日期为 2024 年 6 月。
专利摘要显示，本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法，属于晶片抛光技术领域，解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘，抛光盘上设有抛光垫，用于抛光晶片；抛光头，抛光头设置于抛光盘上方，抛光头包括：软基垫和本体，软基垫设置于抛光头底部，软基垫用于吸附晶片，本体设置于软基垫上方远离抛光垫的一侧，本体与软基垫之间形成一空腔；以及检测组件，包括磁场发生器和磁场检测器。本申请通过在抛光盘上设置磁场发生器以形成磁场，并利用磁场的磁吸力与抛光头内的磁场检测器相配合，从而快速检测晶片状态为正常运行或飞片，便于及时执行相应的抛光控制策略，可延长抛光机的使用寿命，减少停机次数。