深圳西可实业取得高精度单面研磨抛光机专利，提高单面研磨抛光的精度

 2024 年 9 月 6 日消息，天眼查知识产权信息显示，深圳西可实业有限公司取得一项名为“高精度单面研磨抛光机“，授权公告号 CN221658911U，申请日期为 2024 年 7 月。
专利摘要显示，本实用新型涉及超精密抛光技术领域，具体涉及一种高精度单面研磨抛光机，包括：研磨组件，包括研磨盘，研磨盘用于研磨工件；抛光组件，包括抛光盘，抛光盘用于抛光工件；摆臂机构，用于带动工件沿设定第一运动轨迹在研磨盘上往复运动与沿设定第二运动轨迹在抛光盘上往复运动，其中，第一运动轨迹为经过研磨盘圆心的水平弧线，第二运动轨迹为经过抛光盘圆心的水平弧线；固定组件，安装于摆臂机构，且用于固定工件并使工件在运动过程中自转。