华海清科申请化学机械抛光控制方法专利，实现化学机械抛光过程的自动控制

2024 年 7 月 12 日消息，天眼查知识产权信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及电子设备”，公开号 CN202410519807.X，申请日期为 2024 年 4 月。
专利摘要显示，本申请提供一种化学机械抛光控制方法、化学机械抛光设备及电子设备。方法用于对晶圆进行化学机械抛光，晶圆包括第一薄膜和第二薄膜，第一薄膜覆盖在第二薄膜的上方，方法包括：获取当前晶圆之前的多个历史晶圆在化学机械抛光时由抛光头施加的抛光压力信息；获取在化学机械抛光前当前晶圆的第一薄膜的第一厚度信息；获取多个历史晶圆在化学机械抛光后剩余的第二薄膜的第二厚度信息；根据各抛光压力信息、第一厚度信息以及各第二厚度信息，确定针对当前晶圆的目标抛光压力信息；根据目标抛光压力信息，控制化学机械抛光设备的抛光头向当前晶圆施加压力，以对当前晶圆进行化学机械抛光。